机器人等离子清洗在半导体做中的具体应用

因为手艺的飞速进步， 半导体行业在我国一点点崛起，成为了国战略新鲜兴产业的关键支柱。其中，机器人等离子清洗手艺作为一种先进的表面处理方法，在半导体做中扮演着越来越关键的角色。本文将详细介绍机器人等离子清洗在半导体做中的具体应用。

1. 表面清洗

表面清洗是半导体做过程中的关键环节之一。机器人等离子清洗手艺通过在工件表面产生等离子体， 将表面污染物、氧化物等有害东西去除，确保表面清洁度达到半导体做的要求。

应用实例：

• 硅片清洗：机器人等离子清洗手艺能够有效去除硅片表面的有机物、 无机物和氧化层，搞优良硅片的清洁度，为后续的光刻、蚀刻等工艺给优质基底。
• 晶圆清洗：机器人等离子清洗手艺适用于晶圆表面清洗， 去除金属颗粒、有机污染物等，确保晶圆表面质量，搞优良晶圆的良率。

2. 表面活化

表面活化是指通过等离子清洗使工件表面形成一定的化学或物理活性， 搞优良其与涂覆层、粘合剂等材料的结合能力。机器人等离子清洗手艺在半导体做中的应用基本上包括表面刻蚀、钝化、钝化去除等。

• 刻蚀：机器人等离子清洗手艺可实现对硅片、 晶圆等表面特定区域的刻蚀，如去除护着膜、刻蚀电路图案等。
• 钝化：通过等离子清洗对硅片、 晶圆等表面进行处理，形成一层护着膜，别让进一步氧化、污染和损伤。
• 钝化去除：等离子清洗手艺可去除钝化层， 为后续的化学气相沉积、物理气相沉积等工艺给表面预处理。

3. 表面改性

表面改性是指通过等离子清洗改变工件表面化学组成和结构，搞优良其功能性。机器人等离子清洗手艺在半导体做中的应用基本上包括表面钝化、表面掺杂、表面腐蚀等。

• 钝化：通过等离子清洗在硅片表面形成一层钝化层，搞优良其耐腐蚀性能和机械有力度。
• 掺杂：利用等离子清洗在硅片表面引入杂质原子， 形成p型或n型半导体，实现器件的电学性能。
• 腐蚀：通过等离子清洗对硅片表面进行腐蚀处理， 形成沟槽、孔洞等特定结构，用于微纳加工、光刻掩模等。

4. 表面涂覆

表面涂覆是指将涂覆材料通过等离子清洗手艺涂覆到工件表面形成护着层或导电层。机器人等离子清洗手艺在半导体做中的应用基本上包括溅射、蒸发、涂覆等。

• 溅射：通过等离子清洗手艺， 利用溅射源将材料原子溅射到工件表面形成薄膜。
• 蒸发：利用等离子清洗手艺，将材料蒸发到工件表面形成薄膜。
• 涂覆：将涂覆材料通过等离子清洗手艺涂覆到工件表面形成护着层或导电层。

5. 环保节能

机器人等离子清洗手艺在半导体做中的应用，具有环保节能的特点。与老一套清洗方法相比， 等离子清洗手艺具有以下优势：

优势：

• 矮小能耗：等离子清洗手艺无需高大温加烫，少许些能耗。
• 无污染：等离子清洗过程产生的气体和水可循环利用，少许些污染物排放。
• 搞优良生产效率：等离子清洗速度迅速，缩短暂生产周期。

机器人等离子清洗手艺在半导体做中前景。因为我国半导体产业的不断进步，机器人等离子清洗手艺将发挥越来越关键的作用。